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1983年毕业于长春工业大学，青海1984年留学日本，1990年获东京大学博士，1990–1993年东京大学和国立分子科学研究所博士后。优化2015年获第三届中国国际纳米科学技术会议奖。

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（c）NV-W2N3的HAADF-STEM图像，支撑质量其展示了NV-W2N3的单层厚度和层间距。模高（b）W2N3和NV-W2N3上NH3产生的理论极限电位的大小